第1062章 应对

浸液系统，听起来是一个普通得再也不能普通的名词，但在光刻系统里是一个新名词。你可以认为它很简单，但要弄清楚这个系统，却需要很长一段时间。

　　这个浸液系统不是那么好研究的，牵涉问道控制、气泡去除、液体选择等等一系列的问题，去离子水只是其中最简单的一种。

　　等同行开始研究什么是浸液系统时，重世研究院新一轮研究又紧锣密鼓地开展起来，都是针对波长50nm左右的。

　　这不是一个简单的升级换代，可能会出现一些划时代的成果。

　　在这次项目讨论的最终会议上，面对三十七个项目负责人，龙建华提出，“芯片生产大的方面，我们的光刻和蚀刻已经处于世界顶尖水平。即使如此，光刻工序中，在硅片表面清洗烘干、涂底、旋涂光刻胶、软烘、对准曝光、后烘、显影、硬烘等工序还只能算作一般水平，有的甚至还落后于同行；在其它工序上，也只有封装这一道工序处于世界前茅。”

　　“有人说我自不量力，想把芯片生产设备全部自己开发，力抗整个世界。我们要知道，我们的研究院就是世界级的，这么大一个研究院，半导体研究方面的人才就超过一万，世界其它国家在研的也只有这个数，为何不能力抗全世界？”

　　“这次突破，对我们超越或追上同行是一个很好的机会。我们现在有157nm，遇到了不少问题，这是我们先知先觉的，是优势。大家都在犹豫的时候，我们方向明确，一鼓作气追上去。追上他们，超越他们。”

　　根据半导体事业部和销售总公司商议的结果，两年内不出售这样的光刻机，使得自己保持一段时间的优势；虽然157nm只是一个过渡性的，但这个设想是重世研究院研究出来的，并没对外公布技术线路，加上已经申报大量专利，别人要想研制出这样的光刻机，也至少需要两年。

　　有两年时间，可以做很多事情，甚至可能会出现50nm的芯片。

　　对芯片的生产设备，龙建华只“知道”一些节点，比如浸液系统，比如下一步在50nm……令他郁闷的是，人家筠研在试验出157nm后，马上断言下一步就是这个数。

　　外行就是外行，真正的专家就是真正的专家，死记硬背总是比不上人家的理解与推理……

　　有157nm芯片壮腰，重世集团宣布对家电产品进行升级，自动化程度更高，使用更方便，引发各种同行大为紧张。

　　有的是重世芯片的老顾客，马上下单订购这种芯片，以求不要被重世落下；这种单子，马上被重世收了。这种订单，是增加设备数量就可以解决的事情，多多益善。